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弁理士試験、受験生、知的財産管理技能士、知財検定、知的財産、弁理士、特許、商標、意匠、実用新案、著作権、不正競争防止法に関する情報の提供
<短答試験勝手にボーダー予想企画!!>
2013年度弁理士試験から、短答試験の合格基準点の最低点が、 従来60%(36点)から65%(39点)に引き上げられました。 これは、弁理士試験の難化を表しているといえるでしょう。 また、例年の合格基準点は参考にならず、合格基準点を予想できない状況です。 今年短答試験を受験される方は不安で仕方がないと思います。 そこで、みんなで考える合格基準点を 予想してみよう。お気軽にご投票ください!

■トピックス■ ● 各予備校・開講/開講予定一覧
【2014年短答試験向け】
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【2013年論文試験向け】
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論文直前答練

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直前構成レギュラーパック
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論文公開模試
論文直前構成演習講座
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論文直前答練

論文公開模試
論文直前構成演習講座

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内容を少し美化しているため、必ず青本を確認してください!→工業所有権法(産業財産権法)逐条解説

責任とれません。


■【青本】1条 特許法及び実用新案法と意匠法とでは保護の方法がどのように異なるか。
意匠の創作は、特許法における発明、実用新案法における考案と同じく、抽象的なものである。
しかし、発明、考案が自然法則を利用した技術的思想の創作であり、特許法、実用新案法はその側面からの保護を目的としている。
これに対し、意匠法は2条1項の表現からも明らかなように美感の面からアイデアを把握し、これを保護しようとするものである。

■【青本】1条 意匠法の目的 H23年本試
意匠法の目的は、意匠の保護及び利用を図って、意匠の創作を奨励し、産業の発達に寄与することである。

■【青本】1条 意匠と産業の発達の関係 H23年本試
意匠と産業の発達の関係についてはいくつかの態様が考えられる。
①優れた意匠を商品に応用することによって需要が増加し、産業の興隆が実現される場合がある。
②優れた意匠が同時に技術的に優れている場合もあり、技術の進歩ひいては産業の発達が意匠そのものによって直接に実現される場合がある。

■【青本】1条 意匠権と商標権との相違
意匠権と商標権とは工業所有権であるという点で共通する。
しかし、意匠権は、美的な創作を保護するものであるのに対し、
商標権は、商標を使用する者の業務上の信用を保護するものである。

■【青本】1条 意匠権と著作権との相違
意匠権と著作権との相違は、
意匠権が①産業政策的観点から認められる権利であって、
    ②国家の行政処分によって発生するのに対し、
著作権が①著作者の精神的表現に関しその人格的・財産的利益の保護を目的とする権利であって、
②著作物の成立と同時に発生する、という点である。

■【青本】2条 部分意匠の趣旨
平成10年改正前、「物品」とは、市場で流通する有体物とされているため、独立して取引の対象となりえない物品の部分は、意匠法上の「物品」ではなく、保護対象となっていなかった。
 しかし、近年、独創的で特徴ある部分を取り入れつつ意匠全体で侵害を避ける巧妙な模倣が増加し、十分にその投資を保護できなかった。
 そこで、物品の部分に係る意匠も保護対象とするため、部分意匠制度を導入した。


■【青本】2条 8条を除くとした理由(組物に部分意匠を認めない理由)
「組物の意匠」の保護価値は、その全体の組み合わせが有する美感にあることから、
部分にかかる創作を評価する部分意匠の出願は認めないこととした。

■【青本】2条 物品と一体として用いられる物品に表示される画像も保護する理由
物品と一体として用いられる物品に表示される画像デザインであっても、
別の物品に表示されていることは使用上の便宜にすぎないことからである。

■【改正本】2条2項 画像意匠の趣旨
① 平成18年改正前は、液晶時計の時刻表示部のようにそれがなければ物品自体が成り立たない画面デザインや、携帯電話の初期画面のように機器の初動操作に必要不可欠なものは、その機器の意匠の構成要素として意匠法の枠内で保護していた。
② しかし、昨今の情報技術の発展に伴い登場してきた画面デザインは、ある物品に一般に想定される使用目的や機能を実現するために必要不可欠であり、機器の一部を構成するものも数多く創作されているが、現行法では保護されない場合が生じている。
③ このような保護の状況は、画面デザインの創作に投資をしている企業等による製品開発の実情と合致しないため、こうした画面デザインを意匠権により保護し、模倣被害の防止が必要となっている。
④ そこで、平成18年改正法により、物品の本来的な機能を発揮できる状態にする際に必要となる操作に使用される画面デザイン(画像)について、物品の部分の形状、模様若しくは色彩又はこれらの結合に含まれるものとして意匠法の保護対象とする。
⑤ また、当該画面デザインがその物品の表示部に表示されている場合だけでなく、同時に使用される別の物品の表示部に表示される場合も保護対象とする。

■【青本】3条「工業上利用することができるもの」
意匠法で保護に値する意匠は、特許法、実用新案法にいう「産業上利用することができる」発明・考案とは異なり、工業的方法により量産されるものに限られる。
例えば、農具は農業に使用されるものであるから意匠登録の対象となるのではなく、工業的に大量生産されるものであるから、そのデザインが意匠登録の対象となる。

■【青本】3条 特許法、実用新案法のように公然実施をされたものが規定されていない理由
意匠は外観で判断するため、公然実施をすればすべて公知になるからである。



■【青本】3条 意匠は刊行物公知が当初から外国も含むとしていた理由
現行法制定時、特許法、実用新案法では、公然知られた発明・考案及び公然実施された発明・考案については新規性の判断を国内に限定しつつ、刊行物記載に関しては、交通、通信技術の発展等を考慮し、新規性の判断を国内に限定しないという態度をとった。
しかし、意匠は、大部分の場合、刊行物に記載されるよりも、意匠を施した物品が市場に出回る方が早いのが実情であり、外国における新規性の判断を特に刊行物記載に限定したのではほとんど無意味となる。
そこで、外国における公知の事実も参酌することにした。

■【青本】3条1項3号 全く同一の意匠に限らず類似のものまでも新規性がないとした理由
意匠の新規性の判断は外形的な物品の形状、模様等を比較して行うものであるから、

■【青本】3条 3②に外国の公知意匠を含めた理由
日本産業が世界市場において製品競争力の優位性を保つために、
創作性の高いデザインを適切に保護し、
創作性の高い意匠の創作を促すことが必要であることから、創作性の要件を引き上げたものである。

■【青本】3条の2 3条の2の趣旨 H21本試
① 先願意匠の一部と同一又は類似の後願意匠は、その先願意匠が設定登録され、意匠公報が発行される前に出願された場合でも、新しい意匠の創作とはいえないため、かかる意匠に意匠権を与えることは、意匠制度の趣旨からみて妥当でないこと、
② 先願として完成品の意匠が出願された後、その先願意匠が意匠公報に掲載される前に、その完成品を構成する部品の意匠が出願された場合、現行の拒絶条項では拒絶されず、いずれの出願も登録され得るため、権利関係の錯綜を招来していること、
③ 平成10年一部改正で、部分意匠制度の導入、組物の意匠の登録要件緩和および組物の登録対象の拡大により、先願意匠の一部と同一又は類似の意匠が、後願として出願されるケースが増大すること


■【青本】3条の2 3条の2但書の趣旨
平成10年の本項制定当初、①新たな意匠の創作を保護する意匠制度の制度趣旨からして妥当でないこと、②実質的な権利期間の延長を招くおそれがあり、不適当であることから、後願の出願人が先願の出願人と同人か他人かを問わず、本条を一律に適用していた。
しかし、①デザイン開発において、製品全体、個々の部品の順に順次デザインが決定されていく開発実態に合わせて適時に出願することが困難であることや、②近年の模倣品被害の増加を背景に、市場において成功した製品デザインの独自性の高い部分のみ模倣するといった模倣に対抗するための、部品の意匠や部分意匠の意匠権の取得が戦略的に行えないといった問題が生じていた。
そこで、平成18年改正により、①同一出願人の場合は権利の錯綜の問題が生じないこと、②先願意匠権の実質的な権利期間の延長につながらないように一定程度の出願期限を設けるべきことを考慮して、先願の意匠公報の発行の日前までに同一人が出願した後願の部品の意匠又は部分意匠について、本条の規定により拒絶されないこととした。


■【青本】3条の2 3条の2但書かっこ書の趣旨 
① ただし書の規定は、先願が秘密意匠である場合、秘密期間経過後に掲載される意匠公報発行の日前までも、同一人による後願出願に係る意匠について意匠登録を受けることができない。
②仮にこれを認めた場合、秘密期間は最長3年であるため、長期間にわたる後日出願が可能となり、実質的に先願意匠権の権利期間の延長にもつながる懸念がある。
③また、先願が長期にわたって秘密とされている間に、更に先願の一部の意匠について意匠登録を受けることができると、他人の出願意匠や公知意匠との間で権利関係が抵触するとの蓋然性が高まることが懸念される。
④そこで、先願が秘密意匠である場合でも後願の出願について意匠登録を受けることができる期間が過度に延長されないように措置した。

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[ 2012/08/17 12:51 ] 口述試験 | TB(0) | CM(0)
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・2級知的財産管理技能士
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<弁理士試験の成績>
●2010年
・短  答:不合格(36点)
・論文必須:―
・論文選択:―
●2011年
・短  答:合格(49点)
・論文必須:AFB
・論文選択:合格(著作権法)
●2012年
・短  答:免除
・論文必須:AEB
・論文選択:免除
●2013年
・短  答:免除
・論文必須:合格
・論文選択:免除
・口述試験:合格
 
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